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直線電機(jī)在光刻機(jī)上的應(yīng)用
文章出處：同茂電子人氣： 發(fā)布時(shí)間：2018/1/15 14:55:20
直線電機(jī)在光刻機(jī)上的應(yīng)用,首先我們來(lái)看一下什么是光刻機(jī)，光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。
現(xiàn)代科技瞬息萬(wàn)變，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)無(wú)法滿足集成電路生產(chǎn)的要求。 光刻工藝直接決定了大規(guī)模集成電路的特征尺寸，是大規(guī)模集成電路制造的關(guān)鍵工藝。作為光刻工藝中重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破。
光刻機(jī)工件臺(tái)在掃描曝光過(guò)程中要求納米級(jí)的定位精度,采用長(zhǎng)行程直線電機(jī)粗動(dòng)加洛侖茲電機(jī)高精密微動(dòng)補(bǔ)償?shù)?/span>6自由度復(fù)合運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)能滿足要求。為減小微動(dòng)電機(jī)的運(yùn)動(dòng)范圍和加速度,得提高直線電機(jī)的軌跡跟蹤精度。提出了一種開(kāi)閉環(huán)D型迭代學(xué)習(xí)控制律改善永磁直線同步電動(dòng)機(jī)(PMLSM)的軌跡跟蹤性能?？刂破饔扇糠纸M成:PID控制器用來(lái)提高系統(tǒng)對(duì)擾動(dòng)和參數(shù)變化的魯棒性;前饋補(bǔ)償器可提高系統(tǒng)的實(shí)時(shí)跟蹤性能;迭代學(xué)習(xí)控制器則通過(guò)執(zhí)行重復(fù)任務(wù)來(lái)不斷向理想的控制信號(hào)逼近。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,這種控制方法可以有效提高系統(tǒng)的軌跡跟蹤精度。
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